1.確定集成電路的布圖設計、保護政策導向和法律規制。
2.加大對侵權假冒行為的懲處力度，加強民事司法保護，引入侵權懲罰性賠償制度，大幅提高侵權法定賠償上限。
3.嚴格規範證據標準，規範司法、行政執法、仲裁、調解等不同渠道的證據標準。推動行政執法和刑事司法立案標準協調銜接，制定證據指南。
(2)構建集成電路布圖設計大保護工作格局。
1.建立和完善社會治理模式的大保護工作格局。培育、發展和完善集成電路布圖設計仲裁、調解和公證機制。鼓勵集成電路行業協會建立集成電路布圖設計保護自律和信息溝通機制。
2.加強專業技術支持，將技術調查員制度引入司法救濟和行政救濟。
(3)突破集成電路布圖設計專有權保護的關鍵環節。
1.優化授權、確認和維權的銜接程序。加強集成電路布圖設計審查能力建設，縮短審查周期，提高審查質量，加強源頭保護。
2.促進集成電路布圖設計中簡單案件和糾紛的快速處理。
3.加強集成電路布圖設計專有權快速保護制度建設。在知識產權保護中心建立集成電路布圖設計專有權案件快速受理和科學分流機制，提供快速審查、快速確認、快速維權的糾紛解決方案。加快關鍵技術領域集成電路布圖設計專有權授權、確認和抗辯的審查進程。
(4)為保護集成電路布圖設計創造優越的環境。
1.促進國際合作，享受各國集成電路布圖設計審查成果。
2.加強海外維權援助服務。完善境外集成電路布圖設計專有權糾紛預警防範機制，加強大案要案跟蹤研究，及時發布風險預警報告。開展境外集成電路布圖設計等全球應對指導，構建境外爭端協調解決機制，建立境外維權專家咨詢機制。