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與半導體技術相關的問題

首先,所謂半導體中的工藝,是指IC從設計文檔中生產出來的工藝步驟和技術(這是我自己機構的語言,理解壹下是什麽意思就行了)。例如,摻雜、註入、光刻和蝕刻都是流行的和傳統的半導體生產工藝。當擴展到集成電路時,這種“工藝”壹般會增加另壹層“特征尺寸”。比如經常有人說“我的CPU是core2duo,用的是45nm工藝”。當然最先進的技術也達到了30nm左右,甚至在實驗室裏實現了更低的數值。

至於妳說的MOS和CMOS,我個人認為不能稱之為“工藝”,而是電路構成的形式。以CMOS為例,意思是“互補對稱MOS”,即電路中的基本單元是壹個反相器(由壹個NMOS和壹個PMOS組成)——整個電路就是由這個單元組成的,所以是電路組成的壹種形式。

工藝和電路構成的對應關系是:CMOS是單極工藝(口頭上叫COMS工藝,所以容易產生妳的誤解),是數字電路的代表;TTL電路是雙極工藝(口頭上叫雙極),是模擬電路的代表。上述“摻雜、註入、光刻、刻蝕”多用於單極工藝,兩段工藝類似,只是細節有些不同。

芯片焊接、引線焊接都是封裝過程。

如果我回答面試問題的話,基本都會說“特征尺寸”和工藝流程。中國大陸現在能做的最小工藝尺寸是45nm(如英特爾大連工廠)。如果算上臺灣省,基本可以達到世界最先進水平(TCMC和SMIC),但知識產權是不是自己的就不好說了。我會問的第三個問題是,考官指的是電路形式還是工藝流程,因為現在有些企業負責人自己的業務做得不好,問這個問題很奇怪。

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