獨立研發光刻機對我國意味著科技上打破西方國家的壟斷，改變中國高新技術被國外封鎖的局面，同時可以推動國家自主芯片的研發進展。
目前世界上光刻機研發，由荷蘭、美國、日本這三個國家掌握技術，根本不會對外開放也不會對外公布，導致中國壹直在這方面有嚴重的制約。尤其是2020年全球疫情影響，每個國家都不同程度地出現芯片短缺的問題，尤其是中國對於芯片的需求量壹直是居高不下，國外利用中國在技術上的短板，在中國市場上賺走了很多利潤。
外國公司在技術壟斷的同時還在打壓中國高新技術公司的成長，導致很多公司由於沒有核心技術瀕臨崩潰的邊緣，因此國家為了改變技術上的格局，也是打破國外的技術封鎖，因此才會啟動獨立研發光刻機項目。
根據專家推測，中國現在光刻機技術和世界頂級水平依然有20年的差距，可以說差距還是比較大的，但是國家已經啟動相關的研究工作，相信在所有人的努力下，終有壹天會打破技術封鎖。
研發光刻機有哪幾點難度？
第壹：思想難度。
在中國有相當壹部分人有這樣的壹種思維方式，自己研究不如花錢去買，如果買不來就花錢去租，能把成本降低到最低生產出來的產品才是最好的，雖然這種思想沒有錯誤，但是利潤已經被大大降低，而且很多時候自己沒有控制權也沒有決定權，因此研發光刻機不僅僅是技術上的問題，有時候也是人思想上的問題。
第二：技術難度。
光刻機技術壹直是壟斷行業，掌握在發達國家手中，中國想要研究光刻機，在沒有任何資源的情況下只能憑借自己的能力去研究，但是技術上差距太多，肯定會有很多的難題，因此在研發過程中技術上的難題成為很多人解決的關鍵。
第三：環境難度。
沒有壹個國家能獨立自主完成光刻機研發，每壹個國家只是負責光刻機壹部分的生產和研究工作，因此中國想要獨立研發光刻機技術，不僅僅是技術上和思想上的難度，國際環境也是壹個克服的難點，因為沒有壹個國家願意提供幫助，也沒有壹個國家能夠獨立完成光刻機的研發到生產的過程，所以中國要面臨的困難比其他國家要多得多。
光刻機技術壹旦研發成功，不僅能夠解決中國自主芯片的制造問題，更能把中國的高科技往前發展20年。無論是高端高分子材料還是高端化學，都可以有十足的進步，這也是國家為什麽要花重金研發光刻機的原因了。