光刻機是采用類似照片沖印的技術,把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到矽片上的設備。
光刻機(lithography)又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統等,是制造芯片的核心裝備。光刻機壹般根據操作的簡便性分為三種,手動、半自動、全自動:
1、手動:指的是對準的調節方式,是通過手調旋鈕改變它的X軸,Y軸和thita角度來完成對準,對準精度可想而知不高了。
2、半自動:指的是對準可以通過電動軸根據CCD的進行定位調諧。
3、自動:指的是從基板的上載下載,曝光時長和循環都是通過程序控制,自動光刻機主要是滿足工廠對於處理量的需要。
光刻機的品牌根據采用不同技術路線可以歸納成如下幾類:
高端的投影式光刻機可分為步進投影和掃描投影光刻機兩種,分辨率通常七納米至幾微米之間,高端光刻機號稱世界上最精密的儀器,高端光刻機堪稱現代光學工業之花,其制造難度之大,全世界只有少數幾家公司能夠制造。
國外品牌主要以荷蘭ASML(鏡頭來自德國),日本Nikon(intel曾經購買過Nikon的高端光刻機)和日本Canon三大品牌為主。位於我國上海的SMEE已研制出具有自主知識產權的投影式中端光刻機,形成產品系列初步實現海內外銷售。
正在進行其他各系列產品的研發制作工作。生產線和研發用的低端光刻機為接近、接觸式光刻機,分辨率通常在數微米以上。主要有德國SUSS、美國MYCRO NXQ4006、以及中國品牌。