光刻機是采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到矽片上的設備。
光刻機（lithography）又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是制造芯片的核心裝備。光刻機壹般根據操作的簡便性分為三種，手動、半自動、全自動：
1、手動：指的是對準的調節方式，是通過手調旋鈕改變它的X軸，Y軸和thita角度來完成對準，對準精度可想而知不高了。
2、半自動：指的是對準可以通過電動軸根據CCD的進行定位調諧。
3、自動：指的是從基板的上載下載，曝光時長和循環都是通過程序控制，自動光刻機主要是滿足工廠對於處理量的需要。
光刻機的品牌根據采用不同技術路線可以歸納成如下幾類：
高端的投影式光刻機可分為步進投影和掃描投影光刻機兩種，分辨率通常七納米至幾微米之間，高端光刻機號稱世界上最精密的儀器，高端光刻機堪稱現代光學工業之花，其制造難度之大，全世界只有少數幾家公司能夠制造。
國外品牌主要以荷蘭ASML（鏡頭來自德國），日本Nikon（intel曾經購買過Nikon的高端光刻機）和日本Canon三大品牌為主。位於我國上海的SMEE已研制出具有自主知識產權的投影式中端光刻機，形成產品系列初步實現海內外銷售。
正在進行其他各系列產品的研發制作工作。生產線和研發用的低端光刻機為接近、接觸式光刻機，分辨率通常在數微米以上。主要有德國SUSS、美國MYCRO NXQ4006、以及中國品牌。