拓荊科技股份有限公司（以下簡稱“拓荊公司”或“公司”）成立於2010年4月，於2021年1月12日整體變更為股份有限公司。公司總部位於遼寧省沈陽市渾南區，並在北京、上海、海寧成立三家子公司。公司主要從事高端半導體專用設備的研發、生產、銷售和技術服務。公司聚焦的半導體薄膜沈積設備與光刻機、刻蝕機***同構成芯片制造三大主設備。公司多次承擔國家重大科技專項，被中國半導體行業協會評為2016年度、2017年度、2019年度“中國半導體設備五強企業”。
公司主要產品包括等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）設備、原子層沈積（ALD）設備和次常壓化學氣相沈積（SACVD）設備三個產品系列，技術指標達到國際同類產品先進水平，產品主要應用於集成電路晶圓制造，以及TSV封裝、光波導、Micro-LED、OLED顯示等高端技術領域。目前，公司研發的PECVD、ALD及SACVD設備系列化產品已累計發貨超150臺，客戶端總流片量突破1500萬片。公司產品獲得兩屆中國集成電路創新聯盟的IC技術創新獎、遼寧省科技進步壹等獎等榮譽。
公司現有十余名海外高層次專家，結合國內優秀人才，形成了壹支國際化的專業團隊，具備高科技研發實力及管理經驗，截至2021年6月30日，公司員工總數超350人（含子公司）。通過多年技術積累，公司已形成自主知識產權體系，截至2021年6月30日，累計獲授權專利超160項，被國家知識產權局評為“國家知識產權示範企業(2019-2022)”。
公司總部占地80畝、總建築面積達40，000平方米，擁有現代化辦公大樓及高等級潔凈廠房、先進和完備的無塵實驗室及系列高端薄膜實驗設備，用以研制和生產科技領先的半導體薄膜設備。公司產業化基地第壹期生產能力可實現年產100臺套，全部投產可達350臺套設備，可以滿足下遊客戶增產需求。
公司擁有覆蓋全球的供應商網絡，並在北京、上海、武漢、合肥、天津、臺灣等20多個地區的近40條生產線都設有技術服務中心，可為客戶提供每周7天，每天24小時的技術服務。公司運營管理體系已通過ISO9001、ISO14001、ISO45001體系的認證。
公司願與業界夥伴建立真誠、友好、***贏的產業合作聯盟，***同為中國及世界半導體產業的發展做出貢獻。