華為有光刻機。
華為作為中國科技巨頭，不僅在手機、通信等領域取得了不俗的成就，還在芯片研發方面默默發力。華為曝光了壹款神秘的自研光刻機，這款華為自研光刻機采用了最先進的技術，可實現更精細的制程工藝，並且具有高精度、高穩定性和高效率等優點。它將為中國的芯片產業帶來革命性的突破，讓中國芯片制造不再受制於人。
這款光刻機雖然很先進，但是要想真正突破歐美封鎖，還需要在技術、市場和產業鏈等多方面下功夫。不過，也有人認為華為自研光刻機是中國芯片產業的壹次重大突破，有望在全球範圍內引領新的技術潮流。華為自研光刻機的出現，無疑為中國芯片產業註入了新的活力。
光刻機品牌介紹
光刻機國外品牌主要以荷蘭ASML（鏡頭來自德國），日本Nikon（intel曾經購買過Nikon的高端光刻機）和日本Canon三大品牌為主。其中荷蘭公司ASML為下壹代EUV光刻系列的唯壹供應商，在半導體價值鏈中具有強大地位，TWINSCAN系列是世界上精度最高，生產效率最高，應用最為廣泛的高端光刻機型。
全球絕大多數半導體生產廠商，都向ASML采購TWINSCAN機型，比如英特爾（Intel）、三星（Samsung）、海力士（Hynix）、臺積電（TSMC）、中芯國際（SMIC）等。位於中國上海的SMEE已研制出具有自主知識產權的投影式中端光刻機，形成產品系列初步實現海內外銷售。