1.確定集成電路布圖設計，保護政策導向和法律規制。
2.加大侵權假冒行為懲戒力度，強化民事司法保護，引入侵權懲罰性賠償制度，大幅提高侵權法定賠償額上限。
3.嚴格規範證據標準，規範司法、行政執法、仲裁、調解等不同渠道的證據標準。推進行政執法和刑事司法立案標準協調銜接，制定證據指引。
（二）構建集成電路布圖設計大保護工作格局。
1.建立健全社會***治模式的大保護工作格局。培育、發展和完善集成電路布圖設計仲裁，調解和公證工作機制。鼓勵集成電路行業協會建立集成電路布圖設計保護自律和信息溝通機制。
2.加強專業技術支撐，在司法救濟和行政救濟中引入技術調查官制度。
（三）突破集成電路布圖設計專有權保護關鍵環節。
1.優化授權確權維權銜接程序。加強集成電路布圖設計審查能力建設，壓縮審查周期，提高審查質量，強化源頭保護。
2.推動集成電路布圖設計簡易案件和糾紛快速處理。
3.加強集成電路布圖設計專有權快速保護機構建設。在知識產權保護中心中，建立集成電路布圖設計專有權案件快速受理和科學分流機制，提供快速審查，快速確權，快速維權的糾紛解決方案。加快重點技術領域集成電路布圖設計專有權審查授權、確權和維權程序。
（四）塑造集成電路布圖設計保護的優越環境。
1.推動國際協作，推動國家之間***享集成電路布圖設計審查結果。
2.加強海外維權援助服務。完善海外集成電路布圖設計專有權糾紛預警防範機制，加強重大案件跟蹤研究，及時發布風險預警報告。開展海外集成電路布圖設計這樣的全球分應對指導，構建海外糾紛協調解決機制，建立海外維權專家顧問機制。