光刻機涉及許多學科和專業。印度工業基礎不好，很多工業特產生產不出來。光刻機還需要高精尖的專業，印度壹個人做不了。光刻機又稱掩模對準曝光機、曝光系統和光刻系統，是制造芯片的核心設備。它使用類似於照片印刷的技術，通過曝光將掩模上的精細圖案印刷到矽片上。
高端投影光刻機分為步進投影和掃描投影光刻機兩種。分辨率通常在7納米到幾微米之間。高端掩模對準器被認為是世界上最復雜的儀器。高端光刻機堪稱現代光學產業之花，其制造難度之大，全球只有少數幾家公司能夠制造。國外品牌主要是荷蘭的阿斯麥(鏡頭來自德國)、日本的尼康(高端光刻機，英特爾曾經從它手裏買過尼康)和日本的佳能。
光刻機的應用場景
1、芯片制造:光刻機是半導體芯片制造中的關鍵設備之壹，用於將芯片上的電路圖形轉移到矽片上。通過控制掩模對準器的光源和掩模，可以實現高精度的圖案轉移，從而制造高質量的芯片。
2.LCD制造:LCD需要使用光刻技術制作像素，而光刻機是實現這壹工藝的關鍵設備。光刻機可以將電路圖形轉移到液晶屏上，從而實現圖像顯示。
3.光學元件的制造:掩模對準器也可以用於制造光學元件，例如透鏡和棱鏡。通過控制掩模光刻機的光源和掩模，可以實現高精度的光學元件制造。
4.光電器件的制造:光刻機也可用於制造光電器件，如太陽能電池板、光電探測器等。通過控制掩模光刻機的光源和掩模，可以實現高精度的光電器件制造。