壹、集成電路布圖設計專有權的內容
1，版權所有。它是指權利人有權以光學、電子或者其他方式復制其受保護的布圖設計。
2.商業使用權。指布圖設計所有人對受保護的布圖設計和含有受保護的布圖設計的集成電路或者含有該集成電路的產品進行商業使用的權利。
二、集成電路布圖設計專有權的法律保護
(1)保護期限
1.根據我國規定，布圖設計專有權的保護期為10年，從布圖設計登記申請日或在世界任何地方首次商業使用日起計算，以較早者為準。
2.無論是註冊還是投入商業使用，布圖設計自創作之日起15年後不再受條例保護。
(2)侵權方式:布圖設計侵權主要包括非法復制和非法商業利用。
(3)侵權責任
1，侵權責任的形式
我國《條例》規定了侵犯布圖設計專有權的民事責任和行政責任。
關於民事責任，侵權人必須立即停止侵權行為，承擔賠償責任。
關於行政責任，國務院知識產權行政部門在處理因侵權引起的糾紛時，如果侵權行為成立，可以責令侵權人立即停止侵權行為，沒收或者銷毀侵權產品或者物品。
2.停止直接侵權。布圖設計權利人或者利害關系人有證據證明他人正在實施或者將要實施侵犯其專有權的行為，如不及時制止將會對其合法權益造成難以彌補的損害的，可以在起訴前向人民法院申請采取責令停止有關行為和依法進行財產保全的措施。
三。集成電路布圖設計專有權的限制
1，合理使用或利用
(1)個人用途復印
為個人目的復制受保護的圖形設計，可以不經權利持有人許可，不向其支付費用；
(2)為教學研究而復制。
僅為評價、分析、研究、教學等目的復制受保護的布圖設計的。可以不經權利持有人許可，不向其支付報酬而進行。
2.逆向工程。它是指分析和評估他人的布圖設計，然後根據這種分析和評估的結果創造新的布圖設計。
3.權利用盡。它是指布圖設計所有者或者其授權的人將受保護的布圖設計或者含有該布圖設計的半導體集成電路產品投入市場後，不再享有與該布圖設計或者該半導體集成電路產品有關的任何商業利用的權利。未經權利人或者其授權人同意，任何人都可以進口、發行或者以其他方式轉讓，不構成對權利人權利的侵害。
4.善意的買家。在獲得含有受保護的布圖設計的集成電路或者含有該集成電路的物品時，在不知道並且沒有合理理由知道其含有非法復制的布圖設計的情況下將其投入商業使用，不視為侵權。
5.強制許可。又稱非自願許可，是指未經權利人同意，由有關主管部門直接發放的使用許可，是對布圖設計權利人的重要限制。